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清芯卓KOH刻蚀清洗机

产品标签  | 晶片清洗机 半导体清洗设备 湿法清洗设备生产厂家 定制湿法清洗设备 生产各种清洗机

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清芯卓KOH刻蚀清洗机

工艺槽功能：加热冷却+旋转，基础工艺流程:KOH→HQDRKOH→QDRH2SO4→QDR，设备类型：手动/半自动（定制）

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      江苏 苏州 相城区 渭塘镇凤南路99号
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    品牌：清芯卓产品别名：晶片清洗

    晶片规格：

    2-8〞单、双cassette

    主要材料:

    金属骨架+PP/PVC壳体，槽体材质PP/PVDF/PTFE/石英

    工艺槽功能：

    加热冷却+旋转

    基础工艺流程:

    KOH→HQDR KOH→QDR H2SO4→QDR

    设备类型：

    手动/半自动（定制）

    Footprint : 2000 (W) x 1400 (D) x 2000(H) mm（非标）


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